我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破

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新华社武汉11月10日电(记者谭)经过三年的科技攻关，我国光学薄膜精密微复制技术取得了重大突破，成功打破了国外技术垄断。这是记者10日从湖北国防科技办公室和湖北航天化学技术研究所得到的消息。

据介绍，光学薄膜精密微复制技术是在光学薄膜基片表面精确涂覆特定配方的树脂，然后在具有特定设计的微纳米尺度几何图形的雕刻辊上成型的技术。广泛用于液晶背光模组增亮膜和扩散膜、道路交通标志微棱镜反射膜、液晶保护用防反射膜和防窥视膜、裸眼3d显示功能膜、家用电器用金属类拉丝高光膜等。这些产品附加值高，市场需求大，关键技术总是掌握在外国公司手中。

2014年至2016年，湖北航天化工学院在湖北省承担了重大科技项目“光学薄膜精密微复制工艺制备关键技术的开发与应用”，先后开展了结构设计、雕刻树脂配方研究和涂层工艺研究，近期通过了湖北省科技厅验收。

湖北航天化工研究院相关负责人表示，他们设计了特殊的表面涂层微观结构，开发了雕刻涂层的特殊树脂配方，并在光学薄膜雕刻涂层背面采用了防眩光、防划伤或防静电处理，产品成品率提高了20%以上，大大提高了中国新材料产业链的科技水平。

据报道，目前该技术已在重要国防项目中得到应用，并已申报10项发明专利。